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Agenzia Nazionale per le Nuove Tecnologie, L Energia e lo Sviluppo Economico Sostenibile (ENEA)CIG 848729623A

Fornitura di sistema di deposizione di film sottili a base di silicio con tecnica plasma enhanced chemical vapour deposition (pecvd)

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700.000 €importo del lotto

06/11/2020pubblicata

Dati della gara

Tipoaltro
ProceduraProcedura negoziata senza previa pubblicazione
CUPI34I19005780001
CPV38970000-5

Partecipanti e aggiudicatari non ancora presenti negli open data ANAC.

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Fonte: open data ANAC (licenza CC BY-SA 4.0) e avvisi PVL e TED, elaborati da apscale. I codici fiscali delle persone fisiche non sono mostrati; i dati incoerenti non sono mostrati.