Procedura aperta per l'affidamento di fornitura e posa in opera di un sistema di deposizione a strati atomici (ald) in versione termica, destinato alla crescita di ossidi, nitruri e derivati metallici su substrati di silicio e altri materiali compatibili, con il criterio dell'offerta economicamente più vantaggiosa sulla base del miglior rapporto qualità/prezzo